Пистолет плазменной очистки

Добро пожаловать отправлять электронную почту для запроса информации о связанной аппаратуре:

shaobo@sfi-crf.com

Реактивно-ионный плазменный обработчик струйного типа CRF-APO-R&D-XXXD

Название

Плазменная обработка струйного типа (Плазменная обработка струйного типа)

Модель источника питания плазмы

CRF-APO-R&D-XXXD

Питание

220В/переменный ток, 50/60 Гц

Мощность (Мощность)

600Вт/25кГц (опция)

Коэффициент мощности

0.8

Высота обработки

5-15 мм

Ширина обработки

Прямой струйный тип (Прямой струйный тип): 1-6 мм (опция)

Вращающийся струйный тип (Вращающийся струйный тип): 20 мм ~ 80 мм

Внутренний режим управления

Цифровой контроль

Внешний режим управления (Внешний режим управления)

Запуск/остановка I/O (Включение/выключение I/O)

Рабочее газообразное вещество (Газообразное вещество)

Сжатый воздух (0,4 МПа)/N2 (0,2 МПа)

Масса устройства

8 кг

Особенности продукта: Возможность выбора множества типов плазменных пистолетов и сопел, используемых в различных ситуациях, для удовлетворения потребностей различных продуктов и условий обработки;

Устройство компактного размера, легко транспортируется и перемещается, экономит пространство для клиентов;

Можно монтировать в линию производства клиентского оборудования, что снижает затраты клиентов;

Долгий срок службы, низкие затраты на обслуживание и ремонт, удобно для контроля затрат клиентов.

Область применения: Используется главным образом для предварительной обработки печати, нанесения покрытий и дозаправки корпуса мобильного телефона в электронной промышленности, поверхностной обработки экрана мобильного телефона; для очистки поверхности аэрокосмических электрических разъемов в оборонной промышленности; для предварительной обработки экранной печати и термопереноса в промышленности общего назначения и т.д.